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Improvement of Toroidal Plasma (TP) Type Sputtering for Depositing Co-Cr Films on Plasma-Free Substrates
https://doi.org/10.15099/00004421
https://doi.org/10.15099/00004421d4285d38-7a60-4d79-aa34-58350709188a
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
|---|---|---|
Kokiyo_42_01_Page037to042.pdf (803.8 kB)
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| Item type | 紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1) | |||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 公開日 | 2012-10-11 | |||||||||||
| タイトル | ||||||||||||
| タイトル | Improvement of Toroidal Plasma (TP) Type Sputtering for Depositing Co-Cr Films on Plasma-Free Substrates | |||||||||||
| 言語 | ||||||||||||
| 言語 | eng | |||||||||||
| キーワード | ||||||||||||
| 主題Scheme | Other | |||||||||||
| 主題 | プラズマフリーCo-Cr膜形成用 | |||||||||||
| キーワード | ||||||||||||
| 主題Scheme | Other | |||||||||||
| 主題 | Depositing Co-Cr Films on Plasma-Free Substrates | |||||||||||
| キーワード | ||||||||||||
| 主題Scheme | Other | |||||||||||
| 主題 | トロイダルプラズマ式スパッタ法 | |||||||||||
| キーワード | ||||||||||||
| 主題Scheme | Other | |||||||||||
| 主題 | Improvement of Toroidal Plasma (TP) Type Sputtering | |||||||||||
| キーワード | ||||||||||||
| 主題Scheme | Other | |||||||||||
| 主題 | sputtering method | |||||||||||
| キーワード | ||||||||||||
| 主題Scheme | Other | |||||||||||
| 主題 | film thickness | |||||||||||
| キーワード | ||||||||||||
| 主題Scheme | Other | |||||||||||
| 主題 | toroidal plasma | |||||||||||
| キーワード | ||||||||||||
| 主題Scheme | Other | |||||||||||
| 主題 | magnetic flux distribution | |||||||||||
| キーワード | ||||||||||||
| 主題Scheme | Other | |||||||||||
| 主題 | Co-Cr films | |||||||||||
| 資源タイプ | ||||||||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 | |||||||||||
| 資源タイプ | departmental bulletin paper | |||||||||||
| ID登録 | ||||||||||||
| ID登録 | 10.15099/00004421 | |||||||||||
| ID登録タイプ | JaLC | |||||||||||
| 著者 |
高橋, 隆一
× 高橋, 隆一
× 池田, 長康
× 直江, 正彦
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| 著者別名 | ||||||||||||
| 識別子Scheme | WEKO | |||||||||||
| 識別子 | 57356 | |||||||||||
| 姓名 | Takahashi, Takakazu | |||||||||||
| 著者別名 | ||||||||||||
| 識別子Scheme | WEKO | |||||||||||
| 識別子 | 57357 | |||||||||||
| 姓名 | Ikeda, Nagayasu | |||||||||||
| 著者別名 | ||||||||||||
| 識別子Scheme | WEKO | |||||||||||
| 識別子 | 57358 | |||||||||||
| 姓名 | Naoe, Masahiko | |||||||||||
| その他（別言語等）のタイトル | ||||||||||||
| その他のタイトル | プラズマフリーCo-Cr膜形成用トロイダルプラズマ式スパッタ法の改善 | |||||||||||
| 抄録 | ||||||||||||
| 内容記述タイプ | Abstract | |||||||||||
| 内容記述 | Co-Cr films for perpendicular recording have been deposited by the toroidal plasma (TP) type sputtering method with applying a magnetic field by a solenoid coil, or by attaching a magnet to the outer pole to change the plasma state during sputtering. By applying the magnetic field by the solenoid coil, discharge current, film thickness and film composition, saturation magnetization Ms of 480--800 emu/cc and coercivity Hc of 250--350 Oe in the films depended on the plasma state. On the other hand, by attaching the magnet to the outer pole, the magnetic flux distribution in front of the target plane was significantly improved. Therefore, the applied voltage to electrodes was lower from 520 to 440 V at Ar gas pressure of 0.2 Pa. The erosion profile of targets was changed. The variation in the film thickness and the Co content over the whole film plane were reduced. |
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| 引用 | ||||||||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||||||||
| 内容記述 | 富山大学工学部紀要，42 | |||||||||||
| 書誌情報 |
富山大学工学部紀要 巻 42, p. 37-42, 発行日 1991-03 |
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| ISSN | ||||||||||||
| 収録物識別子タイプ | ISSN | |||||||||||
| 収録物識別子 | 03871339 | |||||||||||
| 書誌レコードID | ||||||||||||
| 収録物識別子タイプ | NCID | |||||||||||
| 収録物識別子 | AN00175872 | |||||||||||
| 著者版フラグ | ||||||||||||
| 出版タイプ | VoR | |||||||||||
| 出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 | |||||||||||
| 国立国会図書館分類 | ||||||||||||
| 主題Scheme | NDLC | |||||||||||
| 主題 | ZM2 | |||||||||||
| 出版者 | ||||||||||||
| 出版者 | 富山大学工学部 | |||||||||||
| 資源タイプ(DSpace) | ||||||||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||||||||
| 内容記述 | Article | |||||||||||
