@article{oai:toyama.repo.nii.ac.jp:00004053,
 author = {畠山, 豊正 and 四谷, 平治},
 journal = {富山大学工学部紀要},
 month = {Mar},
 note = {This paper reports the resistivity of evaporated Chromium,Nickel-Chromium (80%Ni-20%Cr) and Nickel films deposited on glass by the oblique incidence. The specific resistivity of the Chromium film showed very large values owing to oxidation. And the resistivity of all substrates at large incident angles were also very large values,because their film thickness was smaller than the theory values. The anisotropy of the resistivity was similar to the nomic metals. Anomaly of the resistivity was observed at the near incident angle O^0 in high rates of deposition., 斜方蒸着法により作成された薄膜には，その物理的性質に異方性や異常性があらわれることが，いろいろな物質について報告されている。
たとえば，パーマロイ磁性薄膜では磁化容易軸が異方性を示す。
シリコン，ゲルマ二ウム，CdTeなどの半導体においては蒸着方向に沿って非常に大きな光起電圧効果がみとめられる。
また，偏光に対する吸収系数が偏光方向と膜の蒸着方向との関係により異なることがゲルマ二ウムなどで研究されている。
金属薄膜においても一般にその抵抗値が異方性を示す。
そのほかに，銀では蒸着角が30°～35°において抵抗値が小さくなり，マンガンでは蒸着角が0°～20°で大きくなるという異常性が報告されている。
我々は，現在最とも薄膜抵抗として実用化されているニッケル・クローム系薄膜について斜方蒸着の実験を行なった。
得られた抵抗値より膜抵抗値，異方性を求め考察を行なった。, Article, 富山大学工学部紀要，21},
 pages = {41--44},
 title = {斜方蒸着したニッケル・クロム系薄膜の抵抗値に関する研究},
 volume = {21},
 year = {1970}
}