@article{oai:toyama.repo.nii.ac.jp:00003607,
 author = {安川, 三郎 and 位﨑, 敏男 and 石野, 史郎},
 issue = {1/2},
 journal = {富山大学工学部紀要},
 month = {Feb},
 note = {The authors reexamined the Hippel and Bloom's plating baths which were reported by them as the most favorable conditions. The results obtained are as follows: -- 
(1) The ash-coloured and perfect metallic Se deposits were obtained by electrolysis of about 18n sulphuric acid baths. This fact agreed with Rippel and Bloom's results. 
(2) However, in this condition the pitting holes occured intensely, and they were not prevented by the stirring of bath or change of current density. These phenomena, which are very important in electro plating, were not reportei by Rippel and Bloom., 前報迄は主として亜セレン酸の稀硫酸々性浴から金属セレンの電着について報告してきた。而して金属セレンを電着せしめるには可なり電流密度を大きくする必要があり，それには硫酸の酸性度をもっと大きくすべきである事を予想しこのことについては既に第1報に於て述べておいた。その後Hippel等は18n硫酸々性浴から金属セレンの電着に成功したと報じている。そこで著者等がHippel等の電着浴について追試を行ったところ電着膜の電気抵抗は稀硫酸浴の場合よりも遥かに少さく電流は平滑に流れ殆んど完全な金属セレンの電着がみられた。然しながら陰極表面に溜まる水素気泡は電着終了時迄全々動かないのでこの部分にせレンの電着が殆んどみられず，かなりひどいpitting holeとしてあらわれる。このpitting holeは電動撹持を行ってもまた電流密度を種々に変えてみても防止することが出来なかった。Hippel等は平滑良好な電着膜が得られたと報じているので著者等はこの相異点について報告することにする。
猶，浴中の酸化セレン濃度，電着温度，電流密度などの電解条件はHippel等の報告と著者等が前報迄に報告してきたものと割合よく一致しているので，これらの電解基礎条件については触れないことにする。, Article, 富山大学工学部紀要，7(1/2), Page 68-71},
 pages = {68--71},
 title = {セレンの電着に関する研究(第3報) : 濃硫酸浴(その1) : Hippel 及び Bloom の電解浴について},
 volume = {7},
 year = {1956}
}